Wichtige Fragen und Antworten zu Immobilien Ist HMDS brennbar?Ja - HMDS ist als leicht entzündlich eingestuft (Flammpunkt 17 Grad). Lagern und handhaben Sie es entfernt von allen Zündquellen in explosionsgeschützten Einrichtungen. |Ist HMDS wasserlöslich?Nein - HMDS reagiert mit Wasser und feuchter Luft und hydrolysiert zu Hexamethyldisiloxan (HMDSO) und Ammoniak. Alle Sorten müssen streng wasserfrei gehalten werden. |Was ist die HMDS-Formel?C₆H₁₉NSi₂, Strukturformel (CH₃)₃Si–NH–Si(CH₃)₃, MW 161,39 g/mol. |Ist HMDS giftig?HMDS ist schädlich beim Einatmen, Hautkontakt und Verschlucken. Es wird als akut giftig eingestuft (Kategorie 4 nach GHS). Vollständiges SDB/MSDS auf Anfrage erhältlich. |Was ist der HMDS-pKa?Der pKa der konjugierten Säure (HMDS·H⁺) beträgt in THF etwa 30, was HMDS zu einer mäßig starken Base macht, die in der organischen Synthese häufig für Enolatbildungs- und Deprotonierungsreaktionen verwendet wird.

Spezifikation	Industriequalität Oberflächenbehandlung / Füllstoffe	Pharmazeutische Qualität Arzneimittelsynthese (GMP)	Elektronische Note Halbleiterlithographie
Reinheit (GC)	Größer oder gleich 98,0 %	Größer oder gleich 99,5 %	Größer oder gleich 99,999 % (5N) bis zu 6N für erweiterte Knoten
Wassergehalt	Weniger als oder gleich 0,1 %	Weniger als oder gleich 0,02 %	Weniger als oder gleich 0,005 % (weniger als oder gleich 50 ppm)
Farbe (Pt-Co)	Kleiner oder gleich 30	Kleiner oder gleich 10	Kleiner oder gleich 5
Siedepunkt	125–127 Grad	126,0–126,5 Grad	126,2 ± 0,2 Grad
Flammpunkt	17 Grad (geschlossener Becher)	17 Grad (geschlossener Becher)	17 Grad (geschlossener Becher)
Metallverunreinigungen	Nicht angegeben	Einzelion Weniger als oder gleich 10 ppm	Einzelnes Ion Weniger als oder gleich 1 ppb (ppt-Ebene für 14-nm-Knoten)
Haltbarkeit	6 Monate (N₂-versiegelt)	12 Monate (N₂-versiegelt, dunkel)	18 Monate (ultra-sauberes N₂-versiegelt)
Verpackung	180 kg Stahlfass 1000 kg IBC-Behälter	20L HDPE-Fass 200 l N₂-versiegeltes Stahlfass	10-l-Trommel mit Quarz-auskleidung 200 L ultrasauberes Stahlfass

1. Halbleiterlithographie - Photoresist-Haftvermittler

HMDS ist der Branchenstandard-Haftvermittler, Grundierung und hydrophobes Beschichtungsmittelin der Siliziumwafer-Lithographie, die über ausmacht40 % des gesamten HMDS-Verbrauchs. HMDS wird vor der Photoresistbeschichtung als Dampfphasenprimer (VPP) aufgetragen und reagiert mit Oberflächenhydroxylgruppen (Si-OH) auf dem Wafer, um eine dichte hydrophobe Trimethylsilylschicht zu bilden. Dies verbessert die Haftung des Fotolacks erheblich, verhindert das Ablösen des Lacks während der Entwicklung und eliminiert die Bildung von Randwülsten -, wodurch eine genaue, feine Schaltkreisstrukturierung bis hin zu gewährleistet wird28-nm-Knoten und darunter.

Mit dem Fortschritt fortschrittlicher Halbleiterknoten auf 14 nm, 7 nm und darüber hinaus sind die Reinheitsanforderungen auf gestiegen5N- (99,999 %) und 6N-Qualitäten, mit kontrollierten Metallverunreinigungen im ppb–ppt-Bereich. Unsere HMDS-Produkte in elektronischer Qualität nutzen fortschrittliche Technologie zur Spurenmetallentfernung und erfüllen die Qualifikationsstandards führender Fabriken wie SMIC, Yangtze Memory, Changxin Memory und UMC.

Referenz:SEMI-Standards - Reinheit von Halbleitermaterialien ↗

2. Pharmazeutische Industrie - Silylierungsmittel für die Arzneimittelsynthese

In der pharmazeutischen Synthese wird HMDS häufig als verwendetSilylierungsmittelzum Schutz reaktiver protischer funktioneller Gruppen (–OH, –NH₂, –COOH) in Arzneimittelzwischenprodukten, wodurch unerwünschte Nebenreaktionen verhindert und die Reaktionsselektivität und Zielproduktausbeute deutlich verbessert werden. Es ist ein Schlüsselreagens bei der Synthese von antitumoralen, antiviralen und antiallergischen pharmazeutischen Wirkstoffen (APIs).

Unser pharmazeutisches-HMDS (Reinheit größer oder gleich 99,5 %, GMP-kompatibel) wurde von führenden pharmazeutischen CDMO-Unternehmen validiert und bietet eine stabile Chargenqualität, die für die Arzneimittelforschung und -entwicklung sowie die Produktion im großen Maßstab unerlässlich ist.

Referenz:Pharmakopöe der Vereinigten Staaten (USP) ↗

3. Materialien und Oberflächenbehandlung - Hydrophobisierungsmittel

HMDS ist ein hochwirksames MittelHydrophobierungsmittelfür anorganische Füllstoffe wie pyrogene Kieselsäure und Titandioxid. Die Oberflächenmodifikation mit HMDS verbessert die Füllstoff-Matrix-Kompatibilität in Silikonkautschuk- und Epoxidharz-Verbundwerkstoffen erheblich und verbessert die mechanischen Eigenschaften (Zähigkeit, Zugfestigkeit) und Witterungsbeständigkeit. Es wird häufig in OLED-Verkapselungsmaterialien und bei der Glasbehandlung von Photovoltaikmodulen verwendet, wo HMDS-modifizierte Oberflächen eine deutlich verbesserte Feuchtigkeitsbarriereleistung aufweisen und die Lebensdauer in rauen Außenumgebungen verlängern.

FürOberflächenbehandlung von Glas, Keramik und MetallHMDS bildet einen dichten, kovalent gebundenen hydrophoben Film, der Feuchtigkeitsaufnahme und Korrosion verhindert.

Referenz:PubChem - Hexamethyldisilazan (NIH) ↗

4. Analytische Chemie und Feinchemikalien

In der analytischen Chemie wird HMDS als verwendetDerivatisierungsreagenzzur GC-Analyse protischer Verbindungen (Alkohole, Phenole, Carbonsäuren). Silylierte Derivate weisen eine höhere Flüchtigkeit und eine verbesserte chromatographische Trennung auf und ermöglichen so eine präzise quantitative Analyse von Spurenstoffen in komplexen Matrices.

In Feinchemikalien dient HMDS als Zwischenprodukt für hochwertige Silikontenside und Silikonharze, die in alltäglichen Chemikalien und im Textildruck verwendet werden. Der Markt für HMDS in elektronischer Qualität wird voraussichtlich bis 2026 mit einer jährlichen Wachstumsrate von 18,3 % wachsen, angetrieben durch die beschleunigte Lokalisierung von Halbleitern und den Ausbau der pharmazeutischen CDMO-Kapazität.

Referenz:ECHA REACH-Registrierung - HMDS ↗

5. HMDS als Basis - LiHMDS, NaHMDS und KHMDS

Über seine Rolle als Silylierungsmittel hinaus ist HMDS ein wichtiger Vorläufer der weit verbreiteten Metallamidbasen:LiHMDS(Lithiumhexamethyldisilazid, Lithium-bis(trimethylsilyl)amid),NaHMDS(Natriumhexamethyldisilazid) undKHMDS(Kaliumhexamethyldisilazid). Diese starken, gehinderten Basen sind wesentliche Reagenzien in der pharmazeutischen und feinchemischen Synthese für die selektive Enolatbildung, die gerichtete Deprotonierung und asymmetrische Reaktionen, bei denen sterischer Anspruch und Chemoselektivität entscheidend sind.

LiHMDS(CAS 4039-32-1) ist das am weitesten verbreitete Produkt und wird wegen seiner hohen Basizität (pKa ~30 in THF) und seiner hervorragenden Löslichkeit in etherischen Lösungsmitteln geschätzt.NaHMDSUndKHMDSbieten eine erhöhte Reaktivität und werden dort eingesetzt, wo LiHMDS nicht ausreichend reaktiv ist. Alle drei werden aus HMDS als wichtigstem Ausgangsmaterial hergestellt, weshalb die Bereitstellung von hochreinem HMDS für ihre Produktion von entscheidender Bedeutung ist.

Wir liefern hochreines HMDS, das als Ausgangsmaterial für die Produktion von LiHMDS, NaHMDS und KHMDS geeignet ist. Kontaktieren Sie uns für Mengenspezifikationen.

⚠️ KRITISCHER SICHERHEITSHINWEIS:HMDS istleicht entzündlich(Flammpunkt 17 Grad) und reagiert heftig mit Wasser unter Freisetzung von Ammoniak. Ausschließlich in stickstoff-geschützten, explosionssicheren Umgebungen- lagern und handhaben. Zum Löschen von HMDS-Brändern kein Wasser verwenden.

Tipps zur Staffelpreisgestaltung:Bei Bestellungen über 50 MT erhalten Sie in der Regel einen Rabatt von 5–10 %; 200+ MT/Jahr-Verträge können Einsparungen von 10–15 % ermöglichen. Die Lieferung per Tankwagen reduziert die Fracht pro -Einheit um 8–12 % im Vergleich zur Trommelverpackung. Langfristige Verträge (1–3 Jahre) beinhalten eine vorrangige Lieferzuteilung während der Hochsaison der Halbleiternachfrage.Fordern Sie ein individuelles HMDS-Preisangebot an →

F: Wofür steht HMDS? Was ist das vollständige HMDS-Formular?

HMDS steht fürHexamethyldisilazan- der vollständige chemische Name ist 1,1,1,3,3,3-Hexamethyldisilazan, auch als Hexamethyldisilazan geschrieben. In der Chemie bezeichnet HMDS speziell diese Organosiliciumverbindung (CAS 999-97-3) mit der Struktur (CH₃)₃Si–NH–Si(CH₃)₃. Hinweis: „HMDS“ wird auch als Abkürzung in nicht verwandten Bereichen (z. B. im medizinischen, militärischen oder landwirtschaftlichen Kontext) verwendet, in der Chemie und der Halbleiterfertigung bedeutet HMDS jedoch immer Hexamethyldisilazan.

F: Wofür wird HMDS in der Halbleiterfertigung verwendet?

HMDS wird als Dampfphasen-Haftvermittler (Grundierung) verwendet, der vor der Photoresistbeschichtung auf Siliziumwaferoberflächen aufgetragen wird. Es reagiert mit Si-OH-Gruppen an der Oberfläche und bildet eine hydrophobe Trimethylsilyl-Monoschicht, die die Haftung des Fotolacks erheblich verbessert, eine Delaminierung während der Nassentwicklung verhindert und die Maßhaltigkeit feiner Schaltkreismuster gewährleistet. Es ist ein Standardprozessmaterial in praktisch jeder Siliziumwaferfabrik weltweit, von alten 200-mm- bis hin zu hochmodernen 300-mm-EUV-Lithographielinien.

F: Was ist der Unterschied zwischen HMDS in Industriequalität und Elektronikqualität?

Industriequalität (größer oder gleich 98,0 %) eignet sich für die Oberflächenbehandlung von Füllstoffen (pyrogene Kieselsäure, TiO₂), Beschichtungen und allgemeine Silylierungsanwendungen, bei denen der Spurenmetallgehalt nicht kritisch ist. Elektronische Qualität (größer oder gleich 99,999 %, 5N) erfordert einzelne Metallverunreinigungen unter 1 ppb -, die für die Halbleiterlithographie obligatorisch sind, wo metallische Verunreinigungen im Sub-ppb-Bereich zu Geräteausfällen führen würden. Electronic Grade wird unter hochreinen ISO 14644-Bedingungen in mit Quarz ausgekleideten oder zertifizierten hochreinen Stahlfässern verpackt, wobei jeder Charge ein vollständiger ICP-MS-Bericht über Spurenmetalle beiliegt.

F: Warum reagiert HMDS mit Wasser und wie sollte es gelagert werden?

HMDS enthält eine Si-N-Si-Bindung, die sehr hydrolyseempfindlich ist: (CH₃)₃Si–NH–Si(CH₃)₃ + H₂O → 2 (CH₃)₃SiOH + NH₃. Das freigesetzte Ammoniak erzeugt in verschlossenen Behältern einen Druckaufbau und das entstehende Hexamethyldisiloxan (HMDSO) verunreinigt das Produkt. Alle Qualitäten müssen daher unter trockenem Stickstoff in verschlossenen Behältern bei 0–25 Grad und fern von Feuchtigkeitsquellen gelagert werden. Offene Behälter sollten nach jedem Gebrauch sofort wieder verschlossen und mit Stickstoff überlagert werden.

F: Was ist HMDS und wie unterscheidet es sich von HMDSO?

HMDS (Hexamethyldisilazan, CAS 999-97-3) enthält eine Si-N-Si-Bindung und ist das aktive Silylierungsreagens. HMDSO (Hexamethyldisiloxan, CAS 107-46-0) enthält eine Si-O-Si-Bindung und ist das Hydrolysenebenprodukt von HMDS – es ist weitaus weniger reaktiv. HMDS wird als chemischer Oberflächenmodifikator und Silylierungsreagenz verwendet; HMDSO wird hauptsächlich als nicht reaktive Silikonflüssigkeit und Rohstoff für die HMDS-Synthese verwendet. Bei der Spezifizierung von Materialien für Lithographie- oder pharmazeutische Prozesse sollten die beiden nicht verwechselt werden.

F: Welche Zertifizierungen sollte ich von einem HMDS-Lieferanten verlangen?

Für industrielle Anwendungen: ISO 9001 (Qualitätsmanagement) und ISO 14001 (Umwelt). Für pharmazeutische Qualität: GMP-Konformität, Möglichkeit zur Bereitstellung von USP/EP-referenzierten Echtheitszertifikaten und QC-Berichten von Drittanbietern. Für Elektronikgeräte: Bestätigung der Qualifikation der nachgelagerten Halbleiterfertigung (z. B. SMIC-, UMC-Zertifizierungen), Einhaltung von SEMI F47 oder gleichwertigen Materialstandards, vollständiger ICP-MS-Bericht über Spurenmetalle pro Charge und ISO 14644-zertifizierte, saubere Verpackung. Alle Qualitäten sollten über aktuelle REACH- und TSCA-Registrierungen für den internationalen Export verfügen.

F: Was sind die wichtigsten Alternativen zu HMDS und wann wird HMDS bevorzugt?

Zu den gängigen Silylierungsmittelalternativen gehören Trimethylchlorsilan (TMCS), N-Methyl-N-trimethylsilylacetamid (MSA) und N,O-bis(trimethylsilyl)acetamid (BSA). HMDS wird bevorzugt, wenn milde Reaktionsbedingungen erforderlich sind (kein HCl-Nebenprodukt), wenn eine hohe Silylierungsausbeute entscheidend ist oder wenn der Prozess eine minimale Kontamination durch saure oder korrosive Nebenprodukte erfordert -, was es zur Standardwahl für die Behandlung von Halbleiterwafern und die pharmazeutische Synthese macht. Für die großtechnische Hydrophobierung, bei der die Kosten im Vordergrund stehen, kann TMCS als kostengünstigere Alternative eingesetzt werden.